�߼�ˮ�O(sh��)�䣨EDI��������

EDI�߼�ˮ�O(sh��)��������ȡ����ˮ���O(sh��)�䣬���鷴�B͸�O(sh��)���Ķ��γ��}�O(sh��)��,��������ȡ�����_(d��)10-18.2MΩ.CM,����ˏV������΢��ӹ��I(y��)���댧(d��o)�w���I(y��),���l(f��)늹��I(y��),����ˎ�ИI(y��)�͌�(sh��)�(y��n)�ҡ�Ҳ����������ˎ���sˮ,��ʳ���������a(ch��n)��ˮ,���l(f��)늏S��偠t���a(b��)�oˮ���Լ�������(y��ng)�ø߼�ˮ,��

�B�m(x��)늳��}��EDI,��Electro deionization��CDI��continuous electrode ionization),�����û���x�ӽ��Q��֬�����oˮ�е����x��,��ͬ�r�@Щ���������x������ֱ��늉���������,���քe͸�^���x�ӽ��QĤ������ȥ���^�̡��@һ�^���x�ӽ��Q��֬����B�m(x��)������,����˲���Ҫʹ����͉A��֮����,���@һ�¼��g(sh��)����������y(t��ng)���x�ӽ��Q�b�ã����a(ch��n)�����_(d��)18M-CM�ij���ˮ,���ֿ��Ա��^�������������£�EDI�������,����x��Ĥ�����Ì��Q�ѷŵ���ʽ,�����,����x��Ĥ���g�A��ꎡ���x�Ә�֬,���քe��ֱ��늉���������,���M(j��n)��ꎡ���x�ӽ��Q,����ͬ�r��늉��ݶȵ�������,��ˮ���l(f��)��늽�a(ch��n)������H+��OH-���@ЩH+��OH-���x��Ĥ���g���,����x�Ӳ�����M(j��n)��������,������EDI��ͣ�M(j��n)�н��Q——����,��ʹ�ü�ˮ��Խ��Խ�ߣ�����,���p�����e�Įa(ch��n)���˸߼��ȵĸ߼�ˮ,��

1�����������M(j��n)��Electropure XL-400ģ�K5�K,��

2,�� ����Hanna����ʡ�늌�(d��o)���ھ��O(ji��n)��(c��)�x��һ�M,��

3,���Դ����ϵ�y(t��ng)����Ҫ���Ԫ����ʩ�˵á��Wķ�������a(ch��n)��(y��u)�|(zh��)����,������PLC����,��늄����y��ʩ�˵����Ԫ��,��

1,�����B�m(x��)����(w��n)�������a(ch��n)��Ʒ�|(zh��)��ˮ,���o�����֬������ͣ�C(j��),��

2���o��Ⱦ���ŷ�,���ȭh(hu��n)����ʡȥ�ˏUҺ̎����Ͷ�Y,��

3���O(sh��)��Y(ji��)��(g��u)�o��,��ռ����eС,����(ji��)ʡ���g��ͬ�r߀���й�(ji��)�܃�(y��u)�c(di��n),��

4,�����S����b���{(di��o)ԇ���F(xi��n)��������С,���ύ���Ӗ(x��n)����,��

5���ճ����B(y��ng),����������,���ڄӏ�(qi��ng)�ȵ͡�

6,��Ó�}�ʴ���99.9%,��Ч���h(yu��n)�h(yu��n)���ڃɼ����B͸�͆μ����x�ӽ��Q��